Rumah / Berita / Berita Industri / Lekatan Filem Tidak Mencukupi? DH-7326N Meningkatkan Ikatan Substrat dan Interlayer
Berita Industri
2K PU · Salutan Pembakar Amino · Salutan Perindustrian · DH-7326N
Dalam sistem salutan industri poliuretana dan penaik amino dua komponen, filem itu bukan sahaja memerlukan kekuatan yang baik tetapi juga mesti menggabungkan rintangan air, rintangan semburan garam, dan prestasi mekanikal. Jika filem tidak terikat dengan kuat pada substrat atau antara lapisan, pengelupasan, kemerosotan ketahanan, dan masalah lain boleh berlaku dengan mudah semasa penggunaan jangka panjang, menjejaskan kualiti produk dan hayat perkhidmatan.
Substrat Lekatan Tidak Mencukupi
Salutan tidak melekat kuat pada substrat — ujian potong silang menunjukkan kehilangan kucing; mengelupas lebih berkemungkinan selepas penggunaan jangka panjang.
Lekatan Antara Lapisan yang Lemah
Ikatan yang tidak mencukupi antara lapisan dalam proses semburan berbilang lapisan, menjejaskan kestabilan filem secara keseluruhan.
Rintangan Semburan Air dan Garam Di Bawah Standard
Filem merosot dalam persekitaran lembap atau semburan garam, mengurangkan prestasi perlindungan.
Prestasi Mekanikal yang Tidak Mencukupi
Fleksibiliti, kekuatan tegangan dan rintangan lap tidak mencukupi — menjejaskan ketahanan produk.
DH-7326N: Penganjur Lekatan Kopolimer Siloksan Terubahsuai Polieter
DH-7326N ialah penganjur lekatan kopolimer siloksan yang diubah suai polieter dengan kestabilan kimia yang baik dan ketahanan terhadap hidrolisis. Ia boleh meningkatkan lagi keupayaan ikatan antara filem dan substrat dan antara lapisan, dan meningkatkan ketumpatan pautan silang sistem.
Produk ini menambah baik lekatan substrat, lekatan interlayer, dan kekuatan tegangan dan keanjalan filem, sambil meningkatkan ketahanan terhadap rendaman air suhu ambien, semburan garam, air mendidih dan ujian lap. Ia juga boleh memanjangkan hayat periuk kerja sistem dua komponen, dan sesuai untuk salutan penaik amino dan sistem salutan industri 2K PU.
| Lekatan Substrat | Meningkatkan ikatan filem pada substrat — mengurangkan pengelupasan dan kehilangan cat dalam perkhidmatan |
| Lekatan Interlayer | Menguatkan ikatan antara lapisan salutan dalam sistem berbilang salutan |
| Ketahanan Semburan Air & Garam | Rintangan yang dipertingkatkan terhadap rendaman suhu ambien, pendidihan air dan ujian semburan garam |
| Prestasi Mekanikal | Meningkatkan kekuatan tegangan dan keanjalan — salutan lebih stabil di bawah daya luaran |
| Lanjutan Hidup Periuk | Boleh memanjangkan hayat periuk kerja sistem dua komponen, meningkatkan keupayaan aplikasi |
| Sistem Keserasian | Sesuai untuk salutan penaik amino dan sistem salutan industri 2K PU |
Untuk salutan industri poliuretana dan penaik amino dua komponen, peraturan secara langsung berkaitan dengan ketahanan salutan dan prestasi lengkap. Menambah penganjur lekatan DH-7326N dengan sewajarnya boleh meningkatkan ikatan substrat, ikatan interlayer dan udara, semburan garam dan prestasi mekanikal secara serentak — menyediakan penyelesaian yang lebih dipercayai untuk industri salutan.
Soalan Lazim
Mengapa penentangan terhadap hidrolisis penting untuk penganjuran berasaskan siloksan?
Kimia Siloxane bergantung pada ikatan Si-O pada antara muka salutan-substrat untuk mekanisme promosi pengaruhnya. Jika kumpulan siloksan terhidrolisis secara pramatang — dalam salutan basah sebelum sembuh, atau dalam filem yang diawet semasa pendedahan udara atau kelembapan — ikatan antara muka terputus dan prestasi lekatan hilang. Pengubahsuaian polieter DH-7326N dan struktur kimia direka untuk menentang hidrolisis, mengekalkan integriti ikatan antara muka di bawah keadaan basah yang dihadapi oleh salutan dalam perkhidmatan.
Bolehkah DH-7326N digunakan untuk meningkatkan tahap dalam sistem selain daripada 2K PU dan baking amino?
Ia dicirikan dan disyorkan untuk penaik amino dan sistem salutan industri 2K PU di mana kimianya dipadankan dengan baik. Untuk sistem salutan lain — komponen tunggal, sembuh sinaran atau bawaan air — keserasian dan prestasi harus dinilai melalui percubaan dan bukannya mengandaikan prestasi yang setara, kerana interaksi antara kimia penggalakan lekatan dan pengikat salutan mempengaruhi hasilnya.
